EUVフォトン株式会社
先端半導体の開発に必要な極端紫外線（EUV）の照射・解析評価サービスを提供するEUVフォトン株式会社は、ベータ・ベンチャーキャピタルをリード投資家とする第三者割当増資を実施し、あわせて福岡銀行および日本政策金融公庫からの融資枠を確保したと発表。調達・確保額の総額は約8.8億円としている。
EUVフォトンは2024年設立。九州大学で培われたEUV関連技術を基盤に、EUV光を用いた材料の処理、測定、評価サービスを提供するスタートアップだ。本社を福岡市産学連携交流センターに置き、九州大学筑紫キャンパス内にEUV照射・解析センターを構える。
EUVは、先端半導体の微細化に用いられる露光技術の中核となる光源だ。半導体の高性能化に伴い、EUV対応の材料、製造装置、計測技術の研究開発は重要性を増している。一方で、国内にはEUV照射を提供する民間事業者が限られており、国内メーカーが海外事業者に照射・解析を依頼せざるを得ないケースもあった。研究開発のリードタイムや機密性、コストの面で課題が生じていた。
同社は、九州大学で長年蓄積されたEUV照射・解析に関する知見を活用し、国内企業がより迅速に材料や装置を評価できる環境の整備を目指す。今回調達した資金は、EUVオープンフレーム露光装置を中核とする照射解析設備の導入、サービス提供体制の構築、人材採用などに充てる。
半導体産業では、先端材料、製造装置、計測技術の開発力がサプライチェーンの競争力を左右する。EUVフォトンは、国内でEUV照射・解析を行える基盤を整えることで、日本が強みを持つ半導体素材や装置分野の研究開発を支援し、半導体サプライチェーンの強靱化に貢献する方針だ。
