Patentix、シリーズAで約7.2億円調達──GeO₂パワー半導体で世界市場へ
法人番号 7130001073240
事業概要
事業概要
- Patentix株式会社は、「二酸化ゲルマニウム」を用いた半導体基板･パワーデバイスの研究･開発を行う立命館大学発のベンチャー企業。 「二酸化ゲルマニウム」を用いた半導体は、シリコンやシリコンカーバイド、窒化ガリウムなど従来の半導体材料に比べ、低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性をもつという。 同社は、従来のミスト状にした溶液を用いて結晶を成長させるCVD法とは異なる、同社開発の技術により、安価な原料溶液による「二酸化ゲルマニウム」の製膜を行う。
代表者
代表者
- 衣斐豊祐
住所
住所
- 滋賀県草津市野路東1丁目1番1号立命館大学BKCインキュベータ
設立
設立
- 2022年12月1日
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