重要鉱物領域に挑むスタートアップ5選
法人番号 7130001073240
事業概要
事業概要
- Patentix株式会社は、次世代パワー半導体「r-GeO₂(ルチル型二酸化ゲルマニウム)」のエピウエハ(基板)の研究開発・製造を行う、立命館大学発のベンチャー企業。 ルチル型二酸化ゲルマニウム(r-GeO₂)は、炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)よりも大きなバンドギャップ(4.68eV)を有する次世代のパワー半導体材料であり、電力変換に伴うエネルギー損失の低減が期待されているという素材。 同社は、「株式会社ジェイテクトサーモシステム」と共同で、「r-GeO₂」の成膜に適した成膜方法「チムニー法」を開発し、「r-GeO₂」と結晶構造と格子定数が大きく異なるSi基板上において「r-GeO₂」の単結晶膜を成膜することに成功。同技術を用いて、パワーデバイスの生産ラインに適合する6インチサイズの大口径「r-GeO₂」基盤の試作などに取り組む。
代表者
代表者
- 衣斐豊祐
住所
住所
- 滋賀県草津市野路東1丁目1番1号立命館大学BKCインキュベータ
設立
設立
- 2022年12月1日
スタートアップの詳細データはKEPPLE DBへ
STARTUP NEWSLETTER
スタートアップの資金調達情報を漏れなくキャッチアップしたい方へ。
1週間分の資金調達情報を毎週お届けします。
※登録することでプライバシーポリシーに同意したものとします
※配信はいつでも停止できます
