法人番号 5130001046925

株式会社FLOSFIA

事業概要 事業概要: 株式会社FLOSFIAは、京都大学の藤田静雄教授らが開発した半導体技術を独自に発展させ、酸化ガリウムと呼ぶ新材料を使った省エネ性能の高いパワー半導体の開発に取り組んでいる企業。酸化ガリウムを用いたパワー半導体は、電力変換モジュールの効率化・小型化が期待でき、低コストで製造できる。パソコン用 AC アダプタの超小型化など民生品への応用を目指している。 FLOSFIAの半導体技術「ミストドライ法」は霧状にした原材料溶液を用い、化学反応により酸化物薄膜を作る。この技術を応用し、セラミックスと同様の材料を化学的に薄膜で合成することに成功した。焼結のような高温処理が必要なく、半導体と同様のプロセスになるため、半導体メモリーやイメージセンサー、パワー半導体などの中にセラミックス部品の機能を組み込んで１チップ化することも可能になるという。また、装置内を真空にする必要がなく、装置のコストは約10分の１で済むという。
代表者 代表者: 四戸孝, 中澤達洋
住所 住所: 京都府京都市西京区御陵大原1番29号
HP HP: https://flosfia.com
設立 設立: 2011年3月31日